Canon: NanoimPrinting -tekniikan odotetaan valmistavan 2 nm puolijohteita
Japanin Canon Corporation ilmoitti 13. lokakuuta FPA-1200NZ2C NanoIMPrint (NIL) -puolijohteiden valmistuslaitteiden käynnistämisen.Canonin toimitusjohtaja Fujio Mitarai on todennut, että yrityksen uusi nanoimprinting -tekniikka tasoittaa tietä pienille puolijohdevalmistajille tuottaa edistyneitä siruja, ja tämä tekniikka on tällä hetkellä melkein kokonaan alan suurimpien yritysten omistama.
Selittäessään nanoimprinting -tekniikkaa, Canonin puolijohdelaiteyrityksen päällikkö Iwamoto Kazunori totesi, että nanoimprinting -tekniikka sisältää naamion jäljentämisen puolijohdepiirekaavioon kiekkoon.Jäljentämällä vain kerran kiekkoon, monimutkaiset kaksiulotteiset tai kolmiulotteiset piirit voidaan muodostaa sopivassa asennossa.Jos naamaria parannetaan, jopa 2NM: n piirilinjan leveys voidaan tuottaa.Tällä hetkellä Canonin NIL -tekniikka mahdollistaa kuvion vähimmäisviivan leveyden vastaamaan 5nm: n solmun logiikka -puolijohdetta.
On todettu, että 5nm: n siruvalmistuslaiteteollisuus hallitsee ASML, ja Canonin nanoimprinting -menetelmä voi auttaa kaventamaan aukkoa.
Laitteiden kustannusten suhteen Iwamoto ja Takashi totesivat, että asiakaskustannukset vaihtelevat olosuhteista riippuen, ja arvioidaan, että yhdelle litografiaprosessille tarvittavat kustannukset voidaan joskus vähentää puoleen perinteisistä litografialaitteista.NanoimPrinting -laitteiden laajuuden väheneminen helpottaa myös tutkimuksen ja kehityksen, kuten tutkimuksen ja kehityksen, käyttöönottoa.Canonin toimitusjohtaja Fujio Mitarai on todennut, että yhtiön nanoimprinting -laitetuotteiden hinta on yksi numero pienempi kuin ASML: n EUV (Extreme Ultraviolet) -laitteet, mutta lopullista hinnoittelupäätöstä ei ole vielä tehty.
Raportoidaan, että Canon on saanut monia tiedusteluja puolijohteiden valmistajilta, yliopistoilta ja tutkimuslaitoksilta asiakkailleen.Vaihtoehtoisena tuotteena EUV -laitteille, nanoimprinting -laitteet ovat erittäin odotettuja.Tätä laitetta voidaan käyttää erilaisiin puolijohdesovelluksiin, kuten Flash -muistiin, henkilökohtaiseen tietokoneen dramiin ja logiikkaan.
On todettu, että 5nm: n siruvalmistuslaiteteollisuus hallitsee ASML, ja Canonin nanoimprinting -menetelmä voi auttaa kaventamaan aukkoa.
Laitteiden kustannusten suhteen Iwamoto ja Takashi totesivat, että asiakaskustannukset vaihtelevat olosuhteista riippuen, ja arvioidaan, että yhdelle litografiaprosessille tarvittavat kustannukset voidaan joskus vähentää puoleen perinteisistä litografialaitteista.NanoimPrinting -laitteiden laajuuden väheneminen helpottaa myös tutkimuksen ja kehityksen, kuten tutkimuksen ja kehityksen, käyttöönottoa.Canonin toimitusjohtaja Fujio Mitarai on todennut, että yhtiön nanoimprinting -laitetuotteiden hinta on yksi numero pienempi kuin ASML: n EUV (Extreme Ultraviolet) -laitteet, mutta lopullista hinnoittelupäätöstä ei ole vielä tehty.
Raportoidaan, että Canon on saanut monia tiedusteluja puolijohteiden valmistajilta, yliopistoilta ja tutkimuslaitoksilta asiakkailleen.Vaihtoehtoisena tuotteena EUV -laitteille, nanoimprinting -laitteet ovat erittäin odotettuja.Tätä laitetta voidaan käyttää erilaisiin puolijohdesovelluksiin, kuten Flash -muistiin, henkilökohtaiseen tietokoneen dramiin ja logiikkaan.